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  • HYJL1200真空井式坩堝爐
    HYJL1200真空井式坩堝爐

    更新時間：2020-11-20

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    真空井式坩堝爐 本設備是由石英坩堝（或氧化鋁陶瓷坩堝）和不銹鋼法蘭組成的真空坩堝爐。主要用于煅燒真空或惰性氣體保護下的高純度化合物或擴散半導體晶片，也可用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料
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